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Title / Product Name

PHOTOMETRISCHE ANALYSEVORRICHTUNG UND PHOTOMETRISCHES ANALYSEVERFAHREN UNTER VERWENDUNG VON WELLENLÄNGENEIGENSCHAFTEN EINES AUS EINEM EINZIGEN LEUCHTENDEN TEILCHEN EMITTIERTEN LICHTS

Status

Deleted

Protection Type

European Patent

(AT-) Application Number

2011843762

EP Publication Number

2631631

E-Number

771957

Language

PCT Number

JP11076151

Publication Date

28.08.2013 A

20.01.2016 B1

Registration Date

20.01.2016

AT Publication Date

15.02.2016

Application Date

14.11.2011

Registration Number

Priorities

25.11.2010

2010262267

IPC

G01N 21/64 20060101AFI20131216BHEP

Maximum Duration of Protection

14.11.2031

Owner

Olympus Corporation43-2, Hatagaya 2-chome Shibuya-ku Tokyo 151-0072JP

Representative

No representatives present

Inventor

HANASHI, Takuyac/o OLYMPUS CORPORATION 43-2 Hatagaya 2-chome Shibuya-ku Tokyo 151-0072JP

TANABE, Tetsuyac/o OLYMPUS CORPORATION 43-2 Hatagaya 2-chome Shibuya-ku Tokyo 151-0072JP

YAMAGUCHI, Mitsushiroc/o OLYMPUS CORPORATION 43-2 Hatagaya 2-chome Shibuya-ku Tokyo 151-0072JP